本篇文章637字,读完约2分钟
无论是数控钻孔还是激光打孔,在加工的过程中都会产生一定的污染。若采用机械钻孔,在钻孔过程中的某个瞬间钻头经常会产生200℃以上的高温,而我们在PCB选用材料的过程中都含有某些Tg(玻璃转化温度,GlassTransitionTemperature,即高聚物由高弹态转变为玻璃态的温度,没有很固定的数值,往往随着测定的方法和条件而改变)小于200℃的材料,这样使得钻屑熔化在孔壁上产生钻污,若选用CO2激光钻孔在内层铜箔表面会出现介质材料残膜或炭化残留物,如果在沉铜前不处理干净,就会产生沉不上铜或者沉铜疏松等现象,金属化失效,产品开路报废。随着孔径的不断减小,去钻污工艺也在不断的发展和完善,出现了硬板和软板方法不同,普通板和HDI板不同的现象,总的来说孔清洗工艺经历了一个从湿法到干法的一个过渡。湿法处理包括浓铬酸、浓硫酸、高锰酸钾处理,以及PI调整等方法。铬酸清洗由于其严重的环境污染问题,现在已无人采用,浓硫酸、碱性高锰酸钾处理,主要应用于硬板的去钻污过程,PI调整法则应用于挠性多层线路板去钻污,超声波清洗作为辅助的清洗方法。干法处理是在真空环境下通过激光,等离子体除去孔内钻污。此法需要专门的处理设备,一般在处理挠性多层板、刚挠结合多层板、聚酰亚胺多层板和微小孔径的刚性多层板时使用。
等离子清洗机,小型等离子清洗机,半导体封装等离子清洗机,氧等离子清洗机,大气常压等离子清洗机,真空等离子清洗机厂家,射频等离子清洗机,半导体等离子清洗机,国产真空等离子清洗机
标题:PCB、FPC等离子清洗法去除HDI孔内钻污
地址:http://www.cywsjsjd.com/xinwen/23121.html